🔍 南大光电 · 知乎舆情报告

3. 雷曼光电300162：布局AI先进封装玻璃基板，光互联题材催化。 4. 兴业科技002674：光纤光缆上游材料，光通信行业高景气。 5. 红星发展600367：钡锶原料供给AI光模块玻璃基板，产能稀缺。 6. 兆易创新603986：NOR存储进入涨价周期，AIPC、车载存储双驱动。 7. 旗滨集团601636：玻璃基板实现量产，布局AI光互连赛道。 8. 长电科技600584：加码HBM先进封测，AI算力封装订单充足。 半导体材料，详细分析12家有代表性的企业： 1. 南大光电（300346） 作为芯片制造的“感光血液”，高端光刻胶是卡脖子重灾区。南大光电是国内唯一实现28nm ArF

一、硅片——国产替代与12英寸扩产核心赛道 1. 沪硅产业 主营业务：300mm（12英寸）半导体抛光片、外延片及SOI硅片，国内唯一实现300mm SOI硅片量产的企业。 核心亮点：当前上海及太原两地300mm半导体硅片合计产能已达85万片/月，300mm SOI硅片试验线已建成产能约16万片/年；产品已稳定供应2nm/3nm先进制程客户，在AI、硅光等前沿领域深度布局。 关注原因：国产替代加速叠加价格修复预期驱动。300mm大硅片作为AI算力芯片的核心基础材料，是当前半导体材料国产替代中逻辑最硬的品种之一。 2. 立昂微 主营业务：12英寸抛光片、外延片及功率器件用硅片，同时布局化合物半导

半导体材料：是芯片制造的核心基础原材料，贯穿晶圆加工、封装测试全流程。主要包含硅片、光刻胶、电子特气、靶材、湿电子化学品等品类。材料纯度、精密工艺标准严苛，技术与客户认证壁垒极高，长期依赖海外进口，也是当下国内半导体产业国产替代的核心攻坚赛道。 本期我们聚焦半导体材料产业链，根据业务关联度和企业核心竞争力，筛选出最核心的十家公司，供大家进一步研究参考。 注意：以下内容绝不构成任何投资建议、引导或承诺，仅供交流研讨。 第一家：江丰电子 主营业务：专注超高纯金属溅射靶材、半导体精密零部件的研发、生产与销售。 概念相关：溅射靶材是芯片制造中物理气相沉积（PVD）工艺的核心耗材，用于在硅片上制备导电层

市场辨识度：6月24日、26日连续涨停，是光刻胶板块中市场辨识度最高、涨停最坚决的龙头品种。6月26日涨停驱动因素包括：ArF光刻胶与CMP抛光垫实现量产突破、H股上市筹备全面完成。公司被市场定位为“光刻胶国产替代最大受益者”。 基本面现状：公司KrF光刻胶国内市占率超40%，面板光刻胶本土市占率第一。2025年业绩稳健增长，扣非净利润增29.58%，经营现金流增39.4%，分红比例超54%。公司自产KrF树脂实现量产，在光刻胶上游核心原料环节实现自主突破。电子化学品业务收入占比升至26.69%，半导体光刻胶收入同比增超50%。公司正推进H股上市，A+H架构落地预期强化。 2. 鼎龙股份（30

市场在交易什么 近期A股算力主线上的半导体上游材料、核心元器件涨幅非常惊人，其中有一个重要题材就是国产替代的一个更细分的方向——“对日替代”，像本专栏覆盖的 中船特气、 华特气体、 安集科技、 江丰电子以及本文要写的南大光电，都是这个方向的。 但是同样的国产替代，或对日替代，其核心驱动力也有底层逻辑的不同： ・供应链安全驱动型：核心驱动力是担心未来进口受限（被卡脖子），因此主动导入国产——比如：南大光电(光刻胶）、安集科技（抛光液） ・竞争格局改善型：核心驱动力是海外竞争对手供给或成本变化（卡别人脖子），国内企业承接份额——比如：江丰电子（钨靶）、中船特气 （六氟化钨） ・产业升级驱动型：核心

核心定位：国内超精密光学元件绝对龙头，28nm DUV物镜面形精度已达0.5nm RMS，国内市占率约62%，是上海微电子光刻机物镜系统的核心供应商。光刻机物镜系统是整机中技术壁垒最高的子模块之一，在整个产业链"金字塔尖"层级被海外蔡司长期垄断，茂莱光学是目前A股上市公司中实现物镜领域突破的代表之一。市场辨识度：5月20日涨超9%，距历史新高仅一步之遥。在本轮光刻机行情中多次领涨光学元件板块，被机构定位为光刻机光学方向"技术壁垒最高、替代空间最大"的核心标的之一。 基本面现状：茂莱光学的核心技术能力是国内稀缺的光学精密加工能力，深交所光刻机行情系统显示公司持续获益于上海微电子28nm光刻机验证

第八名：华特气体（688268）——特种电子气体 1.核心业务：光刻气、高纯六氟化钨、六氟丁二烯；国内唯一量产 6N 半导体级氦气企业。 2.2025 财务：营收 14.2 亿元（+1.7%）；净利润 1.35 亿元（-26.75%），利润下滑为可转债利息、研发计提一次性因素，现金流、毛利率健康。 3.对日替代逻辑 ・光刻气获 ASML、Gigaphoton 双认证，适配 3-7nm 先进制程，替代日本大阳日酸。 ・6N 高纯氦气国内独家，海外氦气供给不稳定，国产替代刚性需求。 核心看点：2026 多重利好兑现：光刻气认证持续落地、九江基地氦气产能扩至 700 吨、六氟化钨等特气价格大幅上涨。

江苏南大光电材料股份有限公司（股票简称：南大光电）创办于2000年，2012年8月在深交所创业板上市，主营前驱体材料（包含MO源）、电子特气和光刻胶三项核心电子材料。 南大光电在江苏苏州、浙江宁波、安徽全椒、山东淄博和内蒙古乌兰察布设立研发生产基地，在北美设立营销技术服务分公司，产品广泛应用于制备IC、LCD、LED、OLED、功率器件、半导体激光器等领域。 2025年，南大光电的营收同比增长9.9%，2026年一季度同比仍保持增长状态。 从2019年的3亿元出头，到2026年全年有机会靠近30亿元，南大光电也就花了7年时间，这当然是相当厉害的。 2025年的主要增长动力来自于前躯体材料，该业

KrF光刻胶：国产化率冲至35% ArF光刻胶：高度依赖进口，国产化率很低。 EUV光刻胶：国产化率基本为0，完全依赖进口 2026年6月22日，东京应化、JSR、信越化学、富士电子材料四家垄断全球高端光刻胶九成以上产能的日本企业，停止承接ArF、EUV高端光刻胶新订单，KrF中端光刻胶新增订单配额削减60%以上，所有驻场工艺工程师撤回日本，已签合同交付周期从1-2个月拉长至6-8个月。虽然不全真实。 但2026年一季度，中国自日本进口光刻胶总量从上年同期的约2200吨暴跌至111.3吨，跌幅达95%，高端ArF/EUV光刻胶已连续5个月报关量为零。 多方产业信息交叉验证，该局面是日本出口管制

核心亮点：国内产品线最广的平台型半导体设备龙头，2025年集成电路设备营收同比增长超50%；在手订单合同负债与存货规模创历史新高，交付周期拉长至12-18个月。 最新进展：2026年5月推出首台600mm×600mm面板级封装去胶设备，在大翘曲度基板低温去胶等关键技术上取得突破；预计2026-2027年营收CAGR达25%-30%。 2. 中微公司 主营业务：CCP刻蚀设备、ICP刻蚀设备、薄膜沉积设备（LPCVD/ALD/EPI/PVD）、MOCVD设备。 核心亮点：国内刻蚀设备绝对龙头，产品已进入5nm及更先进制程产线；全球首创甚高频去耦合反应离子刻蚀技术。 最新进展：2026年一季度归母